能量分散式(ED-XRF)

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    NEX CG II Series

    NEX CG II Series





    全新推出 新一代NEX CG II Series提供更靈敏偵測極限能力




     




    產品說明





    Rigaku NEX CG II Series是能量分散式X射線螢光光譜儀(EDXRF),廣範地應用在多樣化樣品的定量與半定量元素分析,濃度範圍從ppm至wt%。
    ​RPF-SQX理論定量軟體, Rigaku在軟體中利用此項技術,使其在幾乎所有類型的樣品中皆能夠進行半定量分析,此外也能夠在有標準品時進行精確的定量分析。軟體中亦運用Rigaku著名的分散基礎參數(fundamental parameter, FP)法,能夠自動估算未觀察的低原子序元素(H to F)的濃度,並給予適當的修正。藉由一個給定標準的校正擬合,相較於一般的EDXRF分析軟體,RPF-SQX 大量減少了標準品需求的數量,因此在標準品價格昂貴又難以取得的情況之下,RPF-SQX 更是能降低持有成本,並減少例行的工作量。

    Rigaku NEX CG II Series搭載獨特的緊密耦合解析幾何光學核心(close-coupled Cartesian Geometry optical kernel),能夠顯著地提高訊噪比(S/N),並採用透過二次靶材而非直接以光源激發,與以往相比,在敏感度上有更進一步的改善,因此可分析元素涵蓋範圍更完整(Na-U)。





    產品特點






    非破壞性分析11Na~92U
    適用於固狀、液狀、粉末與薄膜樣品
    以極化光源激發,降低偵測極限
    不須標準品即可進行半定量分析
    以RPFSQX降低標準品需求
    新的譜峰重疊處理方式減少干擾誤差
    以EZ Analysis 簡化操作介面
    NEXCGII+ 搭載  100 W高功率、65 kV高電壓X光管設計





    應用範圍






    硫(S)於柴油、汽油、石油、船用燃料或其他石油分餾物中的檢測
    硫(S)、氯(Cl)、鈣(Ca)於廢油中的檢測
    紙張與薄膜上矽膠塗層的檢測
    轉化塗層的檢測
    鈦(Ti)、鐵(Fe)、鋅(Zn)、硒(Se)、鋁(Al)、矽(Si)、氯(Cl)、鋯(Zr)於化妝品和身體護理產品中的檢測
    鋅(Zn)、鈦(Ti)、鈣(Ca)、鐵(Fe)、銻(Sb)、溴(Br)、磷(P)於塑料中的檢測
    RoHS檢測、無鹵分析管控、貴金屬回收Pt, Rh, Pd, Au, Ag等應用
    塑膠製程Cl, Mg, Si, S, Ca, Ti, Mo, Sn在PVC樹酯
    污水環境污染分析、水泥分析、採礦分析(Ni, Na2O, Au, Fe, Ca)
    電子材料鍍層、半導體產業   油品分析低硫管控符合ASTM D7220、ASTM D4294、IP 532、EN ISO 8754、EN ISO 20847

     

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    NEX DE VS

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    產品說明





    NEX DE為優質高性能桌上型能量分散X射線螢光(EDXRF)元素分析儀,量身訂製Quant EZ軟體不僅操作介面簡單且符合日常分析與校準的各種需求,只須按照軟體的流程點選,即可引導使用者完成各種應用參數的設定。





    產品特點






    60kV,12W之X-射線光管:封閉式耦合Ag光管,更優越輕元素的分析表現
    高速矽漂移檢測器(Fast SDD)新一代SDD檢測器具備最出色之光學解析及運算能力
    可搭載CCD檢測器:可作微點分析,更適用於RoHS、WEEE及無鹵管控等環保檢測
    可選配RFP-SQX 基礎參數(FP)運算法:特別於標準品不易取得或基質複雜時,可不需標準品即可進行的半定量分析
    RFP-SQX 比對資料庫:Rigaku提供之資料庫可適用於各式樣品類型之比對,提供更多更精確的樣品資訊
    EZ analysis介面更適合於各種日常分析:簡易的操作介面,即使是非技術人員,也可以輕易地上手
    大空間樣品室:大樣品室,並可搭配各式放置樣品的轉盤及樣品杯
    真空系統(可選配):可縮短真空抽氣時間,同時讓輕元素的檢測更靈敏
    可拆式樣品盤:提供預先放入樣品並交替更換的選擇性,提高效率
    光管維護:光管耗損最小化
    安全薄膜:不須任何工具即可更換安全薄膜
    數位資料輸出:支援數據輸出及LIMS實驗室管理系統
    相容於Windows作業系統之軟體:Quant EZ軟體不僅能力非凡,且介面使用簡易,此乃Rigaku數十年,致力於XRF的努力所發展而來










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    NEX DE

    NEX DE


     
    產品說明

    Rigaku NEX CG II Series是能量分散式X射線螢光光譜儀(EDXRF),廣範地應用在多樣化樣品的定量與半定量元素分析,濃度範圍從ppm至wt%。
    ​RPF-SQX理論定量軟體, Rigaku在軟體中利用此項技術,使其在幾乎所有類型的樣品中皆能夠進行半定量分析,此外也能夠在有標準品時進行精確的定量分析。軟體中亦運用Rigaku著名的分散基礎參數(fundamental parameter, FP)法,能夠自動估算未觀察的低原子序元素(H to F)的濃度,並給予適當的修正。藉由一個給定標準的校正擬合,相較於一般的EDXRF分析軟體,RPF-SQX 大量減少了標準品需求的數量,因此在標準品價格昂貴又難以取得的情況之下,RPF-SQX 更是能降低持有成本,並減少例行的工作量。

    Rigaku NEX CG II Series搭載獨特的緊密耦合解析幾何光學核心(close-coupled Cartesian Geometry optical kernel),能夠顯著地提高訊噪比(S/N),並採用透過二次靶材而非直接以光源激發,與以往相比,在敏感度上有更進一步的改善,因此可分析元素涵蓋範圍更完整(Na-U)。


    產品特點


    非破壞性分析11Na~92U
    適用於固狀、液狀、粉末與薄膜樣品
    以極化光源激發,降低偵測極限
    不須標準品即可進行半定量分析
    以RPFSQX降低標準品需求
    新的譜峰重疊處理方式減少干擾誤差
    以EZ Analysis 簡化操作介面
    NEXCGII+ 搭載  100 W高功率、65 kV高電壓X光管設計



    應用範圍


    硫(S)於柴油、汽油、石油、船用燃料或其他石油分餾物中的檢測
    硫(S)、氯(Cl)、鈣(Ca)於廢油中的檢測
    紙張與薄膜上矽膠塗層的檢測
    轉化塗層的檢測
    鈦(Ti)、鐵(Fe)、鋅(Zn)、硒(Se)、鋁(Al)、矽(Si)、氯(Cl)、鋯(Zr)於化妝品和身體護理產品中的檢測
    鋅(Zn)、鈦(Ti)、鈣(Ca)、鐵(Fe)、銻(Sb)、溴(Br)、磷(P)於塑料中的檢測
    RoHS檢測、無鹵分析管控、貴金屬回收Pt, Rh, Pd, Au, Ag等應用
    塑膠製程Cl, Mg, Si, S, Ca, Ti, Mo, Sn在PVC樹酯
    污水環境污染分析、水泥分析、採礦分析(Ni, Na2O, Au, Fe, Ca)
    電子材料鍍層、半導體產業   油品分析低硫管控符合ASTM D7220、ASTM D4294、IP 532、EN ISO 8754、EN ISO 20847

     

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    NEX QC

    NEX QC




     




    產品說明





    製程管控元素分析儀  油品、鍍液、塑膠、採礦等應用。





    產品特點






    可選配CCD攝影鏡頭可作微點分析
    非破壞性分析11Na ~92U
    適用於固體、液體、粉末、泥漿與薄膜樣品
    高功率50KV 激發光源
    搭配自動化濾光器提升靈敏度
    全機觸控式操作介面
    內建式印表機便於數據輸出




    應用範圍






    非破壞性分析11Na ~92U,適用於固體、液體、粉末與薄膜樣品
    高功率50KV 激發光源、全機觸控式操作介面、可選配CCD攝影鏡頭可作微點分析
    RoHS檢測、無鹵分析管控
    電鍍液濃度分析(金、鎳、鐵、鋅等等)
    塑膠添加劑成分分析
    礦物金屬含量分析
    鉻化砷銅(CCA)木材防腐前處理
    化性阻燃劑15 P、35Br磷元素分析管控
    油品分析 符合ASTM D4294、IP 496、IP336、EN ISO 8754、EN ISO 20847、JIS K 2541-4












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    NEX QC+ QuantEZ

    NEX QC+ QuantEZ




     




    產品說明





    Rigaku NEX QC+ QuantEZ能快速達到鈉(Na)~鈾(U)元素的定性與定量分析,並廣泛使用在各式樣品類型。
    全機觸控式人性化操作介面,易於操作。
    儀器設備整合電腦與熱印表機無需外接硬體,專為生產製程管控做最佳化、多功能的設計。
    可與實驗室資訊管理系統(LIMS)或網路將分析儀做連結進行多端操控。
    儀器設備選配:基本參數法(支援軟體)、氦氣填充裝置提升輕元素分析訊號靈敏度。





    產品特點






    非破壞性分析 Na(鈉) ~ U(鈾)
    適用於固狀、液狀、粉末、泥漿與薄膜樣品
    高功率50kV Xray 激發光源
    全機觸控式操作介面
    內建式印表機便於數據輸出
    搭配自動化的濾光器提升靈敏度與選擇
    搭配高精準度與低偵測極限性能的半導體 檢測器
    可選配基本參數法(Fundamental Parameter) 解決無標準品的樣品分析,節省準備標準品的需求 










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